Clinique Foundation Even Better Vitamin Makeup SPF50

Ein paar Tropfen der Foundation auf die saubere Handfläche geben. Mit der bevorzugten Anwendungstechnik – Fingern, Pinsel oder Schwamm – in der Mitte des Gesichts beginnen und nach außen verblenden. Für ein makelloses Finish den Clinique Buff Brush in kreisenden Bewegungen verwenden. Deckkraft nach Wunsch aufbaubar. Bei Bedarf mit Puder nacharbeiten. Das Make-up mit einem Make-up-Entferner wie Take The Day Off sanft entfernen.

Anwendungstipp:
Ein paar Tropfen der Foundation in den Fingern erwärmen, bevor sie aufgetragen werden. Mit den Fingern auf das Gesicht auftragen und mit einem Buff Brush das Produkt einklopfen, für ein nahtloses, natürlich strahlendes Aussehen.

Water\Aqua\Eau, Methyl Trimethicone, Zinc Oxide, Ethylhexyl Methoxycinnamate, Dimethicone, Ethylhexyl Salicylate, Niacinamide, Neopentyl Glycol Diheptanoate, Phenyl Trimethicone, Phenylbenzimidazole Sulfonic Acid, Glycerin, Tromethamine, Lauryl Peg-9 Polydimethylsiloxyethyl Dimethicone, Hdi/Ppg/Polycaprolactone Crosspolymer, Trimethylsiloxysilicate, Polysilicone-11, Hexyl Laurate, Cetyl Peg/Ppg-10/1 Dimethicone, Butylene Glycol, Ascorbyl Glucoside, Sodium Hyaluronate, Caffeine, Hydrolyzed Wheat Protein/Pvp Crosspolymer, Polyglyceryl-4 Isostearate, Trehalose, Acetyl Glucosamine, Triethyl Citrate, Hydrogenated Coco-Glycerides, Aminopropyl Ascorbyl Phosphate, Dimethicone/Divinyldimethicone/Silsesquioxane Crosspolymer, Polyethylene, Silica, Polymethylsilsesquioxane, Disteardimonium Hectorite, Polyhydroxystearic Acid, Glyceryl Stearate, Cetearyl Alcohol, Ammonium Polyacryloyldimethyl Taurate, Polysorbate 80, Stearic Acid, Polysorbate 20, Lecithin, Hydrogenated Lecithin, Palmitic Acid, Laureth-7, Sodium Phosphate, Disodium Phosphate, Potassium Hydroxide, Stearyl Alcohol, Behenyl Alcohol, Triethoxycaprylylsilane, Ascorbyl Palmitate, Tocopheryl Acetate, Magnesium Ascorbyl Phosphate, Tetrahexyldecyl Ascorbate, Bht, Disodium Edta, Phenoxyethanol, Potassium Sorbate, Sodium Dehydroacetate, [+/- Mica, Titanium Dioxide (Ci 77891), Iron Oxides (Ci 77491), Iron Oxides (Ci 77492), Iron Oxides (Ci 77499)]